高选择性分离分子印迹技术的聚合过程可分为三步

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时间:2018-07-31 20:23 来源:未知作者:肖遥点击: 次

　　分子印迹技术是20世纪末出现的一种高选择性分离技术，这种技术是选用能与印迹分子产生特定相互作用的功能性单体，在印迹分子周围与交联剂进行聚合，形成三位交联的聚合物网络，然后，通过合适的溶剂除去印迹分子，在聚合物网络中形成空间和化学功能与印迹分子互补的空穴。

　　整个聚合过程可分为三步：印迹、聚合、去除印迹分子。MIT的基本思想是源于人们对抗体-抗原专一性的认识，即一种抗体只能针对一种抗原，而MIT则通过人工方法合成与目标分子耦合的大分子化合物，由于MIT模仿了生物界的抗原-抗体作用原理，使制备的材料有着极高的选择性，因而受到全球众多研究人员的重视，很快在许多相关领域（如手性拆分、固相萃取、人工酶学、化学或生物传感器、不对称催化等方面）得到了广泛的应用。

　　以MIT制备出来的他子印迹聚合物不仅是具有特定的选择性和高亲和性的他子识别材料，而且还具有很好的物理化学稳定性，如能抵抗很强的机械作用力、能耐高温高压、能抵抗酸碱、高浓度的盐溶液及有机溶洞剂作用，使用寿命长，能多次重复使用而不损失

　　分子记忆效应。文献报道，他子印迹聚合物反复使用100次之后，其印迹能力也未发生衰减，保存8个月之后其性能不发生改变。另外，与目标分子相比，MIT制备方法简单，价格低廉。

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